光刻胶

光刻胶是一种可供印刷电路板(PCB)上金属层使用的特殊材料。它主要使用在阳极处理法(EDP)中,由光刻胶在阳极处理过程中完成板材表面金属表层的形成及其定位图案处理。

光刻胶特点:

- 通用性:光刻胶既可用于有机溶剂乳液,也可用于无机溶剂。
- 能量:光刻胶能快速穿透,以完成准确的图案效果。
- 板头:高分子构造的板头表面能保证高品质的层次结构。

光刻胶的优点:

- 能保证具有高分辨率的覆铜层:光刻胶使用的阳极溶剂,能形成尺寸更小的板材表面图案,以保证较高的分辨率。
- 光学和热效能:光学和热效能约几乎完全保留,以确保光刻图案的精确性。

天宝质量稳定,采用固体态技术,克服了传统光刻胶晶粒落入影响表面光洁度,采用高分子模板,分辨率更高。以往的光刻胶大多为水性胶,采用固体态技术,解决了液态和固态之间的不稳定因素,确保原子层光刻效果,保证印刷微图案的清晰度和精准度。

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  • 什么是光刻机

    光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心装备,用于生产芯片、封装、 LED 制造领域,它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上,光刻机的种类可分为接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
    2022年06月 00